Cibles au tantalesont largement utilisés dans le domaine des semi-conducteurs. Parmi elles, l’application la plus courante concerne la préparation de germes cristallins semi-conducteurs. Grâce à des processus tels que le dépôt physique en phase vapeur, une couche de matériau semi-conducteur est déposée sur la surface de la cible en tantale, puis le germe est ensemencé avec une tranche semi-conductrice. Le matériau semi-conducteur préparé présente les avantages d'une pureté élevée, d'une faible densité de défauts, d'une bonne uniformité, etc., et peut être utilisé pour fabriquer des dispositifs semi-conducteurs hautes performances.
En plus de préparer des germes cristallins semi-conducteurs, les cibles en tantale peuvent également être utilisées pour préparer d'autres matériaux semi-conducteurs, tels que le silicium, le germanium, le carbure de silicium, etc. Dans des processus tels que le dépôt chimique en phase vapeur, les cibles en tantale sont introduites dans la chambre de réaction avec d'autres précurseurs de semi-conducteurs pour réagir et générer le film semi-conducteur requis.