Méthode de préparation du produit cible de Tantalum
Le dépôt de vapeur physique (PVD) est une méthode pour préparer des films minces ou des cibles en évaporant ou en pulvérisant le tantale métal dans un environnement à vide élevé. Les étapes spécifiques comprennent la préparation des billettes de tantale de haute pureté, les coupant en blocs de taille appropriée et nettoyaient la surface, puis les chauffant à la température d'évaporation dans une chambre à vide ou en utilisant la pulvérisation du faisceau d'électrons, la pulvérisation magnétron et d'autres méthodes pour déposer une couche mince de tantale métal sur la plaque de base cible, et enfin refroidir et solidifier le film.
Le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est une méthode de dépôt de films minces par réactions chimiques dans un environnement contrôlé.
La métallurgie de la poudre est une autre méthode couramment utilisée pour préparer des cibles de tantale. Cette méthode utilise une réduction thermique de sodium pour produire de la poudre de tantale, puis le froid appuie isostatiquement la poudre de tantale dans un paquet de latex, puis la gêne dans des conditions où le degré de vide est supérieur à une certaine valeur et la température est supérieure à 2400 degrés, puis obtient une billette de tantale après une certaine période de préservation de la chaleur. Enfin, la billette de tantale est lancée et traitée à la chaleur pour obtenir une cible de tantale.
Paramètres de produit cible de pulvérisation de tantale
| Matériel | R05200, R05400, R05252 (TA -2. 5W), R05255 (TA -10 W) |
|---|---|
| Recristallisation | 95% min |
| Taille des grains | 40 μm ou plus |
| Finition superficielle | 16rms max. ou ra 0. 4 (rms64 ou mieux) |
| Platitude | {{0}},1 mm ou 0,15 % maximum |
| Tolérance | + / -0. 010 "sur toutes les dimensions |
Image de produit cible de tantalum de haute pureté


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R: Oui! Le test peut montrer visuellement les résultats de l'application. En fait, les échantillons sont gratuits,
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R : 100 % d’auto-inspection avant l’emballage
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