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Comment fonctionnent les cibles en tungstène dans le processus de pulvérisation?
La pulvérisation est une technique de dépôt de vapeur physique (PVD) dans laquelle les atomes de gaz ionisés sont accélérés vers une cible de tungstène. Lorsque ces ions énergétiques frappent la surface de la cible en tungstène, les atomes de tungstène sont éjectés du matériau cible. Ces atomes de tungstène éjectés se déplacent ensuite dans une chambre remplie de gaz et sont déposés sur un substrat pour former un film mince. Le point de fusion élevé et la bonne stabilité thermique de la cible de tungstène lui permettent de résister au bombardement des ions énergétiques pendant le processus de pulvérisation. La faible pression de vapeur du tungstène garantit que le taux de pulvérisation reste stable dans le temps, entraînant un dépôt de film cohérent et uniforme.
Cible de tungstène de haute qualité zhenan
Tableau de paramètres du produit cible de la pulvérisation en métal de tungstène pur
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Application |
Semi-conducteurs, micro-électroniques, etc. |
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Volume atomique |
9,53 cm3 \/ mol |
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Structure cristalline et réseau constant |
- W: BCC A=3. 16524 nm (25 degrés) |
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-W |
Réseau cube A=5. 046 nm (stable en dessous de 630 degrés) |
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Chaleur latente de la fusion |
40,13 ± 6,67 kJ \/ mol |
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Chaleur de sublimation |
847,8 kJ \/ mol (25 degrés) |
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Chaleur d'évaporation |
823,85 ± 20,9 kJ \/ mol (point d'ébullition) |
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Coefficient de température de résistance |
0. 00482 I \/ Degré |
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Module élastique |
35000 ~ 38000 MPa (fil) |
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Module de torsion |
~ 36000MPA |
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Compressibilité |
2. 910-7 cm \/ kg |
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