Cible de pulvérisation de tungstène à 99,95 %

Cible de pulvérisation de tungstène à 99,95 %

Matériel: tungstène
Couleur: Gris argenté
Quantité de commande minimale: 1 pièce
Surface : meulage et polissage
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Description
Paramètres techniques
Principaux domaines d'application des produits cibles en tungstène

 

Imagerie médicale‌:Cibles en tungstènesont utilisés pour produire des rayons X et des rayons gamma, qui jouent un rôle important dans le diagnostic et le traitement de diverses maladies. ‌ réacteurs nucléaires‌: les cibles de tungstène peuvent être utilisées comme éléments de carburant dans les réacteurs nucléaires, et aussi bien performer dans diverses applications à haute température. ‌Sémiconducteur Industrie: Les cibles du tungstène sont également largement utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs, en particulier dans la photolithographie et la technologie de dépôt en couches minces. Sa haute densité, sa dureté élevée et sa faible réactivité chimique permettent aux cibles de tungstène de fournir un contrôle de gravure précis et de former des films denses. ‌ATER FIELDS‌: Les cibles en tungstène sont également largement utilisées dans les écrans à panneaux plats, les cellules solaires, les circuits intégrés, le verre automobile, la microélectronique, la mémoire, l'aérospatiale, la fusion de terres rares, les sources de lumière électrique, l'équipement chimique, l'équipement médical et d'autres champs.

 

Paramètres de base du produit de la cible en tungstène

 

Type de matériau

Tungstène

Coefficient de dilatation thermique

4.5 x 10-6/K

Symbole

W

Densité théorique (g/cc)

19.25

Masse atomique

183.84

Rapport z

0.163

Numéro atomique

74

Bafouement

Dc

Couleur/apparence

Blanc grisâtre, brillant, métallique

Densité de puissance maximale (watts / pouce carré)

100*

Conductivité thermique

174 W/m.K

Type de caution

Indium, élastomère

Point de fusion (degré)

3,410

Commentaires

Forme des oxydes volatils. Les films sont durs et adhérents.

 

Détails du produit cible de haute pureté en tungstène
tungsten metal sputtering target manufacture
cible de pulvérisation en métal pur
High Purity w Sputtering Target factory
cible de pulvérisation en métal de tungstène pur
Nos prestations

 

1. Nous pouvons produire votre propre marque.

2. Nous pouvons modifier notre conception d'origine en fonction des exigences du client.

3. Nous ferons des échantillons que vous pourrez examiner et approuver avant de commander

4. Le prix que nous proposons est compétitif, si votre commande est suffisamment grande, nous pouvons également reconsidérer le prix.

5. Nous pouvons créer votre propre design/croquis/image, bienvenue à utiliser. Nos principaux services sont OEM et ODM.

6. Les échantillons peuvent être livrés dans les 7-15 jours après votre paiement.

 

FAQ À propos de nous

 

1.Q : Quels sont vos avantages ?

Affaires honnêtes, prix compétitifs, services professionnels dans le processus d'exportation.

2.Q : Comment garantissons-nous la qualité ?

Fournissez toujours des échantillons de pré-production avant la production de masse ; effectuez toujours une inspection finale avant expédition ;

3. Q: Avez-vous une alimentation stable en matières premières?

Le maintien d'une coopération à long terme avec des fournisseurs de matières premières qualifiés assure la haute qualité de nos produits dès la première étape.

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