Principaux domaines d'application des cibles en tungstène
En raison de son point de fusion élevé, de sa haute densité et de sa bonne résistance à la corrosion, les cibles en tungstène sont largement utilisées dans de nombreux domaines :
Industrie des semi-conducteurs : utilisée pour fabriquer des électrodes de grille, des câbles de connexion, des barrières de diffusion, etc. Imagerie médicale : utilisée pour produire des rayons X et des rayons gamma pour le diagnostic. Aérospatiale : utilisé pour fabriquer des composants et des éléments combustibles à haute température. Industrie électronique : utilisé pour le revêtement par évaporation par faisceau d'électrons, le revêtement par pulvérisation par faisceau d'ions, etc. Dispositifs médicaux : utilisé pour fabriquer des composants à haute température d'équipements médicaux.
Principaux paramètres de la cible en tungstène
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Point de fusion (degré) |
3407 |
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Densité (g/cm³) |
19.35 |
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Point d'ébullition (degré) |
5657 |
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Technologie |
Fusion sous vide, procédé thermomécanique breveté et travail en machine |
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Application |
Semi-conducteurs, microélectronique, etc. |
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Volume atomique |
9,53 cm3/mole |
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Structure cristalline et constante de réseau |
- W : BCC a=3,16524 nm (25 degrés) |
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-W |
Réseau cubique a=5,046 nm (stable en dessous de 630 degrés) |
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Chaleur latente de fonte |
40,13 ± 6,67 kJ/mol |
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Chaleur de sublimation |
847,8 kJ/mol (25 degrés) |
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Chaleur d'évaporation |
823,85 ± 20,9 kj/mol (point d'ébullition) |
Affichage de l'image de la cible en tungstène
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