Cibles de pulvérisation en Zr de haute pureté

Cibles de pulvérisation en Zr de haute pureté

Emballage extérieur : Boîte en bois sans fumigation
Méthode de production : HIP
Certificat : ISO9001, COA, MSDS
Quantité minimum de commande : 1 pièce
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Description
Paramètres techniques
Introduction et méthode de préparation de la cible en zirconium

 

La cible en zirconium est un matériau utilisé dans le processus de dépôt de couches minces, principalement composé d'élément zirconium (Zr). Elle présente un point de fusion élevé, une bonne stabilité chimique et une excellente résistance à la corrosion, ce qui en fait un choix idéal pour la fabrication de semi-conducteurs, de dispositifs optoélectroniques et de films décoratifs. En tant que matériau cible, la cible en zirconium peut produire de la vapeur de zirconium de haute pureté dans des processus tels que le dépôt physique en phase vapeur (PVD), formant ainsi un film uniforme et de haute qualité.

Méthode de préparation

Méthode de fusion sous vide :
Procédé : Faire fondre du métal zirconium dans un environnement sous vide.
Avantages : Évite l’oxydation et les impuretés et garantit la haute pureté du matériau cible.

Technologie de pressage isostatique à chaud :
Procédé : Utiliser une température élevée et une pression élevée pour densifier la poudre de zirconium dans un matériau cible.
Avantages : Produit une structure cible de haute densité et uniforme.

 

Les services de Zhenan

 

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4. Notre usine accueille des inspections sur place à tout moment.
5. Assurer un service après-vente de haute qualité.

 

Spécifications de la cible en zirconium

 

Exigences en matière de traction

Grade Résistance à la traction (min) Limite d'élasticité (min) Allongement (%)
Ksi Mpa Ksi Mpa
1 35 240 20 138 24
2 50 345 40 275 20
3 65 450 55 380 18
4 80 550 70 483 15
5 130 895 120 828 10
7 50 345 40 275 20
9 90 620 70 438 15
12 70 438 50 345 18

 

Environnement de l'entreprise et visites clients

 

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