Introduction et méthode de préparation de la cible en zirconium
La cible en zirconium est un matériau utilisé dans le processus de dépôt de couches minces, principalement composé d'élément zirconium (Zr). Elle présente un point de fusion élevé, une bonne stabilité chimique et une excellente résistance à la corrosion, ce qui en fait un choix idéal pour la fabrication de semi-conducteurs, de dispositifs optoélectroniques et de films décoratifs. En tant que matériau cible, la cible en zirconium peut produire de la vapeur de zirconium de haute pureté dans des processus tels que le dépôt physique en phase vapeur (PVD), formant ainsi un film uniforme et de haute qualité.
Méthode de préparation
Méthode de fusion sous vide :
Procédé : Faire fondre du métal zirconium dans un environnement sous vide.
Avantages : Évite l’oxydation et les impuretés et garantit la haute pureté du matériau cible.
Technologie de pressage isostatique à chaud :
Procédé : Utiliser une température élevée et une pression élevée pour densifier la poudre de zirconium dans un matériau cible.
Avantages : Produit une structure cible de haute densité et uniforme.
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Spécifications de la cible en zirconium
Exigences en matière de traction
| Grade | Résistance à la traction (min) | Limite d'élasticité (min) | Allongement (%) | ||
| Ksi | Mpa | Ksi | Mpa | ||
| 1 | 35 | 240 | 20 | 138 | 24 |
| 2 | 50 | 345 | 40 | 275 | 20 |
| 3 | 65 | 450 | 55 | 380 | 18 |
| 4 | 80 | 550 | 70 | 483 | 15 |
| 5 | 130 | 895 | 120 | 828 | 10 |
| 7 | 50 | 345 | 40 | 275 | 20 |
| 9 | 90 | 620 | 70 | 438 | 15 |
| 12 | 70 | 438 | 50 | 345 | 18 |
Environnement de l'entreprise et visites clients


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