Cible de pulvérisation de métal Zr

Cible de pulvérisation de métal Zr

Forme : Ronde
Matériau : Zirconium 702
Composition chimique : Zirconium
Nom du produit : Cible ronde en zirconium de haute pureté à un prix avantageux
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Description
Paramètres techniques
Introduction à la cible en zirconium

 

La cible en zirconium fait référence à la cible métallique en zirconium utilisée dans la pulvérisation magnétron. Elle joue un rôle important dans la préparation de films minces de haute technologie en raison de ses excellentes propriétés physiques et chimiques, telles qu'un point de fusion élevé, une bonne résistance à la corrosion et une faible section efficace d'absorption des neutrons. L'application de la cible en zirconium dans la pulvérisation magnétron peut préparer des films minces en zirconium de haute qualité, qui sont largement utilisés dans la microélectronique, l'optique, l'optoélectronique et d'autres domaines.

 

notre service

 

1. Fabricant professionnel --15 années d'expérience

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Paramètres mécaniques de la cible en zirconium

 

Standard

Matériel

État

Rm(Supérieur ou égal à)/MPa

Rp0.2(Pennsylvanie

A50 mm(Supérieur ou égal à)/%

ASTM B550

R60702

recuit

379

207

16

 

Environnement de l'entreprise et visites clients

 

High Purity zr Sputtering Target supplier

 

High Purity Zirconium Sputtering Target supplier

Notre entreprise dispose de son propre système SOP pour la production, la vente et le service après-vente. J'espère que nous pourrons vous fournir des services de qualité et professionnels !

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