Applications des cibles en tantale dans l'industrie
Les cibles en tantale sont largement utilisées dans de nombreux domaines de haute technologie en raison de leurs performances supérieures. Nous aborderons ci-après en détail leurs applications spécifiques dans l'industrie de l'électronique et des semi-conducteurs, les applications de revêtement et de film, l'aérospatiale et les dispositifs médicaux.
A. Industrie de l'électronique et des semi-conducteurs
1. Cibles en tantale dans la fabrication de circuits intégrés (CI)
Les cibles en tantale sont largement utilisées pour former des couches barrières pour les structures d’interconnexion en cuivre dans la fabrication de circuits intégrés (CI).
2. Cibles en tantale dans les dispositifs de stockage magnétique
Les cibles en tantale jouent également un rôle important dans les dispositifs de stockage magnétique tels que les disques durs (HDD) et les mémoires magnétiques à accès aléatoire (MRAM).
3. Applications de revêtements et de films
Les cibles de tantale sont transformées en films de tantale denses grâce à des procédés PVD ou CVD, recouvrant les substrats métalliques et offrant d'excellentes propriétés protectrices.
4. Aérospatiale et dispositifs médicaux
Les cibles en tantale sont utilisées pour former des alliages et des revêtements haute température qui peuvent maintenir des performances stables dans des conditions de température et de pression extrêmement élevées, améliorant ainsi l'efficacité et la durée de vie du moteur.
Paramètres associés à la cible en tantale
| Nom | Cible de pulvérisation magnétron en métal tantale Ta |
| Pureté | 99.9%-99.995% |
| Taille | 372x74x6mm, D3x3mm,D6x6mm,D50.8x3mm, 2 pouces, 3 pouces, selon la demande |
| Point d'ébullition | 54257 |
| Densité | 16,654 g/cm³ |
| Point de fusion | 2996.0 |
| Forme | Cible plane, cible rotative, cathode à arc. |
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