Cible de pulvérisation de tantale planaire

Cible de pulvérisation de tantale planaire

Dimensions : selon dessin ou échantillon
Norme : ASTM B 708/365
Méthode d'usinage : usinage CNC
État de surface : meulé ou poli
Application : pour les industries des semi-conducteurs et des revêtements optiques
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Description
Paramètres techniques
Spécifications et dimensions du matériau cible Ta

 

Spécifications : Diamètre : 180.00mm
Tolérance de diamètre ±0.10mm
Épaisseur : 18.00mm
Tolérance d'épaisseur ±0.10mm


Avantages de nos cibles TA :
1. Matériaux de haute pureté
Matériaux sélectionnés de haute qualité
2. Diverses spécifications
Plusieurs spécifications peuvent être personnalisées
3. Traitement de surface
Polissage et meulage de surface

 

Applications
Les cibles en tantale présentent les caractéristiques suivantes : résistance aux températures élevées, résistance à la corrosion, bonne conductivité et capacité à former des films barrières. Elles sont principalement utilisées dans divers écrans plats, communications optiques, optique, TFF, revêtement de semi-conducteurs et autres industries.

 

Composants liés à la cible Ta

 

Grade

3N, 3N5, 4N, avec Ta 99,99 %min

Taille des grains

ASTM 4 ou plus fin

Finition de surface

16Rms max. ou Ra 0.4 (RMS64 ou mieux)

Platitude

{{0}}.1mm ou 0,15% max

Tolérance

+/--0.010" sur toutes les dimensions

 

Contrôle de la qualité des produits Zhenan

 

1. Assurez-vous que toutes les marchandises subissent une inspection stricte pendant le processus de production

2. Toutes les marchandises doivent être strictement inspectées avant l’emballage.

3. Chaque lot de marchandises est réinspecté avant expédition.

 

Visite client et environnement de l'entreprise

 

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