Fournisseur de cibles de pulvérisation de Ta de haute pureté

Fournisseur de cibles de pulvérisation de Ta de haute pureté

Pureté : 99,95 % minimum
Densité : 16,65 G/cm3
Avantages : Haute densité
Forme : Ronde
Envoyez demande
Description
Paramètres techniques
Caractéristiques de nos cibles en tantale

 

Haute pureté chimique
Grains fins
Bonne recristallisation et cohérence de la structure triaxiale
Bonne plasticité
Bonne résistance aux acides
Point de fusion et point d'ébullition élevés
Faible coefficient de dilatation thermique
Bonnes performances d’absorption et de désorption d’hydrogène

 

Spécifications connexes des cibles en tantale

 

Propriété mécanique (recuit)

Grade

(UNS)

Résistance à la traction min.

psi (MPa)

Limite d'élasticité min.

psi (MPa) (2 %)

Allongement min, %

(longueur de jauge de 1 po)

 

(R05200, R05400)

30000 (207)

20000(138)

20

 

Ta-10W (R05255)

70000 (482)

60000 (414)

15

 

Ta-2.5W (R05252)

40000 (276)

30000 (207)

20

 

Ta-40Nb (R05240)

35000 (241)

20000 (138)

25

 

 

Le service de Zhenan

 

1. Personnalisé selon vos besoins et vous fournir un devis valable.
2. Nous avons des ingénieurs professionnels pour concevoir des solutions pour vous.
3. Notre équipe vous fournira des conseils et une assistance professionnelle pour l'ensemble de votre projet.
4. Notre usine accueille des inspections sur place à tout moment.
5. Assurer un service après-vente de haute qualité.

 

Visite client et environnement de l'entreprise

 

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Pure Tantalum metal sputtering target company

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