Cible de pulvérisation en tantale de haute pureté

Cible de pulvérisation en tantale de haute pureté

Matériau : tantale pur et alliage
Composition chimique : Ta (99,95 % min). Nb. W. Fe
Nom du produit : Cible de pulvérisation de tantale pure à un prix avantageux
Matériau : tantale pur et alliage
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Description
Paramètres techniques
Les cibles de pulvérisation de tantale de haute pureté peuvent être personnalisées selon vos besoins

 

Caractéristiques
Matériau : R05200
Pureté : Supérieure ou égale à 99,95 %, Supérieure ou égale à 99,99 %
Taille : Personnalisée
Norme : ASTM B708-2012
Application : Utilisé pour le revêtement par dépôt par pulvérisation cathodique de fibres optiques, de plaquettes de semi-conducteurs et de circuits intégrés. Utilisé pour le verre, la céramique, le revêtement LCD. Utilisé pour le revêtement par pulvérisation cathodique, l'adsorption sous vide poussé de matériaux actifs, etc.

 

Spécifications des cibles en tantale

 

article

Cibles de pulvérisation de tantale pures à bon prix

Matériel

tantale pur et alliage

Densité

16,6 G/cm3

Surface

poli, brillant, roulant

Forme

disque rond, petit disque, grand disque

Quantité minimale de commande

1 pièce

Application

Industrie, Electronique, Médical

 

Notre service

 

1. Fabricant professionnel --15 années d'expérience

2. Contrôle qualité strict - Inspection SGS

3. Capacité d'approvisionnement élevée--3000MT/mois

4. Livraison rapide - sous 15 jours

 

Visite client et environnement de l'entreprise

 

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